Wpływ modyfikacji ditlenku tytanu na strukturę pasmową półprzewodnika / The influence of titanium dioxide modification on the band structure of the semiconductor
|
Opis w języku polskim |
Description in English |
Dyscyplina / Discipline |
nauki fizyczne |
physical sciences |
Promotor / Supervisor |
dr hab. Andrzej Dziedzic, prof. UR e-mail: adziedzic@ur.edu.pl |
dr hab. Andrzej Dziedzic, prof. UR e-mail: adziedzic@ur.edu.pl |
Tytuł tematu badawczego / Title of the research topic |
Wpływ modyfikacji ditlenku tytanu na strukturę pasmową półprzewodnika, otrzymanego w procesie fizycznego osadzania z fazy gazowej oraz wykorzystanie powierzchniowego rezonansu plazmonowego do zwiększenia efektywności fotokatalitycznej nanokompozytu |
The influence of titanium dioxide modification on the band structure of the semiconductor obtained in the physical vapor deposition process and the use of surface plasmon resonance to increase the photocatalytic efficiency of nanocomposite
|
Opis tematu badawczego / Description of the research topic |
Modyfikacja ditlenku tytanu wybranymi metalami lub niemetalami wpływa na kształt struktury pasmowej półprzewodnika. Dąży się do obniżenia szerokości przerwy energetycznej półprzewodnika w celu jego aktywacji promieniowaniem elektromagnetycznym z zakresu widzialnego. Modyfikacja ditlenku tytanu metalami szlachetnymi, dla których obserwuje się zjawisko powierzchniowego rezonansu plazmonowego zwiększa efektywność fotokatalityczną półprzewodnika. Zostanie wykorzystana spektrometria UV/VIS, obrazowanie TEM, SEM, analiza składu fazowego XRD, analiza składu chemicznego EDS, XPS oraz mikroskopia AFM. |
Modification of titanium dioxide with selected metals or non-metals affects the shape of the semiconductor band structure. The aim is to reduce the width of the energy gap of the semiconductor in order to activate it with electromagnetic radiation in the visible range. Modification of titanium dioxide with noble metals for which the phenomenon of surface plasmon resonance is observed increases the photocatalytic efficiency of the semiconductor. A UV / VIS spectrometry, TEM and SEM imaging, XRD phase composition analysis, EDS and XPS chemical composition analysis and AFM microscopy will be used. |
Słowa klucze / Keywords |
ditlenek tytanu, przerwa energetyczna, rezonans plazmonowy, rozpylanie magnetronowe, powłoka |
titanium dioxide, band gap, plasmon resonance, magnetron sputtering, coating |
Oczekiwane kompetencje/umiejętności od kandydata na doktoranta / Expected competences/skills from the candidate for a PhD student |
Znajomość tematyki oraz języka angielskiego |
Knowledge of the subject and the English language |